ハイニックス、200ミリウエハー工場を早期整理へ

【ソウル18日聯合】ハイニックス半導体は18日、収益性やキャッシュフローを改善するため、300ミリメートル製品に比べ競争力の落ちる200ミリウエハー工場の整理を当初より早めると明らかにした。
　ハイニックスの200ミリウエハー生産工場は、韓国の利川、清州の2つ、米国・オレゴン州ユージン、中国・無錫と合わせて5か所にあったが、中国と米国、清州の1工場はすでに生産を中断している。これに続き、DRAMを主力としていた利川工場もウエハー投入を中断し月末で操業を終了すると、公示を通じ明らかにした。最後に残った清州工場も月13万枚のウエハー生産を維持しようとした当初の計画を変更し、絶対供給の必要な分だけを生産することにした。これにより、ハイニックスの200ミリウエハー生産の割合は、昨年末の50%水準から来年初めには10%以内に縮小する。

　ハイニックス側は「主力製品のDRAMとNAND型フラッシュメモリー生産の大部分をコスト構造の優れた300ミリ生産設備にシフトさせることにより、全体的な収益性やキャッシュフローなどを改善できると期待している」とし、300ミリ製品の持続的な生産性向上を通じ業界最高のコスト競争力を維持しながら、競合企業との差別化を図っていくと述べた。

　200ミリ生産工場の早期生産終了により、ハイニックスのウエハー生産能力は来年初めには今年第2四半期と比べ約30%減少するほか、DRAMが20%以上、NAND型フラッシュメモリーは40%以上減ることになり、メモリ業界全体の供給能力減少にも影響を及ぼすとみられる。