【ソウル15日聯合】サムスン電子総合技術院が、次世代ディスプレーや半導体などに幅広く適用可能な「アモルファス酸化物薄膜トランジスタ」の新技術開発に成功した。同社は米サンフランシスコで15日(現地時間)に開かれる世界3大半導体学会「国際電子デバイス会議(IEDM2008)」で、この技術を発表する。
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