原子イメージ用いたナノパターン具現基幹技術を開発

【ソウル6日聯合】ナノ素子具現の中核要素技術となる、原子イメージを利用した電子ビームリソグラフィー基幹技術を、国内研究陣が開発した。ソウル大学材料工学部の金起範（キム・ギボム）教授チームが6日、高分解能透過電子顕微鏡から得られるオングストローム（1オングストローム＝0．1ナノメートル）サイズの原子イメージを数十～数百倍に拡大し、数ナノメートル～数十ナノメートルサイズのパターンを基板の上に作る技術を開発したと明らかにした。