ハイニックス半導体は以前に80ナノプロセスで、技術開発と量産はサムスン電子に遅れをとったものの、歩留まりで上回った経験を持つ。今年は50ナノ級の量産時期がサムスン電子とあまり差がない上、歩留まりについても66ナノプロセス利用時に習得したノウハウがあるため、金社長は追い上げに自信を見せている。
ハイニックス半導体はまた、200ミリメートルウエハーファブの汎用半導体生産を中断し、300ミリメートルの生産割合を2012年までに95%に引き上げる計画だ。同社は現在、京畿道・利川と忠清北道・清州、中国の3か所で300ミリメートルラインを、5か所で200ミリメートルラインをそれぞれ運営している。金社長は合わせて、収益性を高めるため、昨年は売上高に占める割合が1%程度だったモバイルDRAMの生産を、今年は3~9%に拡大する計画を示した。
市場の見通しについては、DRAMは第3四半期に価格の反騰が予想されるが、NAND型フラッシュメモリーが同時期に反騰するかについては見方が分かれていると説明した。ただ、下半期にはDRAMの供給過剰状態が大きく改善され、NAND型フラッシュメモリーの需給はバランスが取れるとの見通しを示した。
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