原子イメージ用いたナノパターン具現基幹技術を開発

【ソウル6日聯合】ナノ素子具現の中核要素技術となる、原子イメージを利用した電子ビームリソグラフィー基幹技術を、国内研究陣が開発した。ソウル大学材料工学部の金起範（キム・ギボム）教授チームが6日、高分解能透過電子顕微鏡から得られるオングストローム（1オングストローム＝0．1ナノメートル）サイズの原子イメージを数十～数百倍に拡大し、数ナノメートル～数十ナノメートルサイズのパターンを基板の上に作る技術を開発したと明らかにした。
　研究陣は、AIPEL（Atomic Image Projection Electron-beam Lithography）と名付けたこの技術を用い、20ナノメートル級の量子ドット、量子線を広い面積の基板に形成することに成功した。また、電子顕微鏡などを製造する大手理化学機器メーカー、日本電子（JEOL）との共同研究を通じ、電子イメージを利用した電子ビームリソグラフィー装備も開発した。金教授は、AIPEL技術は原子イメージを大きく拡大して写真を取るようにパターンを形成することから、パターン形成速度が既存の方法に比べ33倍以上速く、大きさや密度、距離なども正確に調節可能だと説明している。

　今回の研究結果は、材料・ナノ分野の国際学術誌「アドバンスト・マテリアルズ」2007年12月号で「注目に値する研究」に選ばれた。また、この技術に関連し内外で13件の特許が出願・登録されている。